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首頁 > 光刻機 > C-33型光刻機 4英寸 高精度對準(zhǔn)機
  • 產(chǎn)品名稱: C-33型光刻機 4英寸 高精度對準(zhǔn)機

  • 產(chǎn)品類型: 光刻機

  • 產(chǎn)品型號:

  • 發(fā)布時間: 2024-08-07


產(chǎn)品描述

C-33型光刻機 4英寸 高精度對準(zhǔn)機

詳情圖

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C-33型光刻機 4英寸 高精度對準(zhǔn)機

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主要用途

? 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

? 由于本機找平機構(gòu)先進,找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。

(1)?這是一臺雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機;

(2)?這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;

(3)?同時又是一臺檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀。

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主要性能指標(biāo)

(1)?高均勻性LED曝光頭。

? 光強≤20mw;曝光面積:100mm×100mm

? 曝光不均勻性≤3%

? 曝光強度≥30mW/cm2可調(diào)

? 紫外光束角≤3°

? 紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選

? 紫外光源壽命:≥2萬小時

? 電子快門精準(zhǔn)控制

? 對準(zhǔn)精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米

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(2)?觀察系統(tǒng)為上下各兩個單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到液晶顯視屏上。

a、?單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡;

b、?CCD攝像機靶面對角線尺寸為:1/3″,6mm;

c、?采用19″液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19&pide;1/3=57倍;

d、?觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù))

? ? 4.5×57≈256(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)

e、?右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān):向左為下二個CCD,向右為上二個CCD。

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(3)?計算機硬軟件系統(tǒng):

a、鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)”,能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來,并處理成透明的,以便對新進入的圖形進行對準(zhǔn);

b、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形,就分別全屏顯示左或右面圖形。

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(4)?非常特殊的板架裝置:

a、該裝置能分別裝入152×152板架,對版進行真空吸附;

b、該裝置安裝在機座上,能圍繞A點作翻轉(zhuǎn)運動,相對于承片臺而言作上下翻轉(zhuǎn)運動,以便于上下版和上下片;

c、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn),回到承片臺上平面的位置,重復(fù)精度為≤±1.5μ;

d、該裝置具有補償基片楔形誤差之功能,保證版下平面與片上平面之良好接觸,以便提高曝光質(zhì)量。

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(5)?承片臺調(diào)整裝置:

a、?配備有Φ75Φ100承片臺各一個,這二種承片臺有二個長方孔,下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面;

b、?承片臺能作X、Y、Zθ運動,X、Y、Z可作±5mm運動,θ運動為±5°;

c、?承片臺密著環(huán)相對于版,能實現(xiàn)“真空密著”:

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸;

真空密著力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa為軟接觸;

???????????真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸;

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