C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機 精密光刻設備

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C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機 精密光刻設備

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主要用途：

? 本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。

? 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)，適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

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主要性能指標：

1.?多種版夾盤

l?C-25X200型4英寸光刻機有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）。

l?C-25X200型6英寸光刻機有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求（1～4mm皆可）。

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2.?真空吸附基片的“承片臺”

l?C-25X200型4英寸光刻機設有相對應的真空吸附基片的“承片臺”三個，分別適用于φ2、φ3、φ4片。對于非標準片或碎片，只要堵塞相應的小孔，同樣能真空吸附。

l?C-25X200型6英寸光刻機設有相對應的真空吸附基片的“承片臺”五個，分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對于非標準片或碎片，只要堵塞相應的小孔，同樣能真空吸附。

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3.?照明

l?光源：采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

l?照明范圍：≤ф100mm

l?不均勻性：ф100mm內±3%

l?可使用的波長：g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求，可增加I線濾光片。

l?成象面照明：光照度10～15毫瓦/厘米2,任意可調(出廠時,照明度調在10mw/cm2)。
曝光分辨率:1μm

l?對準精度：?1μm

l?套刻精度：?1μm

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4.?采用進口時間繼電器（該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預設）控制氣動快門，動作準確可靠。

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5.?該機為接觸式曝光機，但可實現(xiàn)：

l?硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。

l?軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

l?微力接觸曝光：小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。

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6.?分辯率估計

如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定，環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴格控制，采用進口正性光刻膠，且勻膠厚度得到嚴格控制。加之前后工藝先進的話，硬接觸曝光的最小分辨度可達1μm以上

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7.?對準

觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上。

a.單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡（也可為1.6X～10X）。

b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3，（6mm）;

c.采用19"液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19&pide;1/3=57倍；

d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)），4.5×57≈256倍（最大倍數(shù)）或（91倍～570倍）。

對準臺：（采用片動，版不動方式）

X、Y調整：±5mm。

θ調整：轉角≤5°

對準間隙（分離間隙）0～5mm任意可調。

整個對準臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運動。

“接觸、分離”20μm情況下，片相對于版的“漂移量”，可調到≤±0.5μm。

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8.?設備所需能源：

主機電源： 220V±10% ??50HZ

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空：-0.07～－0.08MPα。

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9.?尺寸和重量：

尺寸：機體720 mm（長）×720 mm（寬）×882mm（高）。

重量：≤100Kg。

機體放在專用工作臺上。

工作臺:1100 mm（長）×750 mm（寬）×645 mm（高）。

高度可調范圍0～30mm。

重量50Kg（工作臺后側裝有電氣部分）。

總重量≤200Kg

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10.?C-25X200型光刻機的組成

l?主機

主機（含機體和工作臺）

對準用單筒顯微鏡

蠅眼曝光頭

l?附件

主機附件

3"□型掩版夾盤

4"□型掩版夾盤（出廠時安裝到機器上）

用于2"基片的真空夾持承片臺。

用于3"基片的真空夾持承片臺（出廠時安裝到機器上）

（若需特殊的基片承片臺，訂貨時用戶提出）

顯微鏡組成

單筒顯微鏡二個

兩個CCD

視頻連接線。

計算機和22"液晶監(jiān)視器。

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