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產(chǎn)品名稱: C-25型單面光刻機(jī) 精密設(shè)備
產(chǎn)品類型: 光刻機(jī)
產(chǎn)品型號:
發(fā)布時間: 2024-08-07
- 產(chǎn)品描述
C-25型單面光刻機(jī) 精密設(shè)備
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C-25型單面光刻機(jī) 精密設(shè)備
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主要用途
? 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
? 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn),找平力小、使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
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主要構(gòu)成
? 主要由高精度對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、采用高均勻性的多點(diǎn)光源、 蠅眼、LED、曝光頭,PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無油真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。
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主要性能指標(biāo)
1有三種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。如果不同于上述尺寸的版,真空無法吸附,但可采用夾盤上的螺孔,和特殊的壓片固定版。
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2設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”三個,分別適用于φ4,φ3,φ2片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。
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3照明
光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。
照明范圍:≤110mm
不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%
可使用的波長:g線、h線、I線的組合。
成象面照明:光照度2~20毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在4mw/cm2)。
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4采用進(jìn)口時間繼電器(該繼電器可從0.1秒~999.9秒預(yù)設(shè))控制真空快門,動作準(zhǔn)確可靠。
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5該機(jī)為接觸式光刻機(jī),但可實(shí)現(xiàn):
a.?硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸,真空≤-0.05MPα。
b.?軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPα~-0.05MPα之間。
c.?微力接觸曝光:小于軟接觸,真空≥-0.02MPα。
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6分辯率估計(jì)
如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上。如果作為批量生產(chǎn),建議使用在1.5μm以上。
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7對準(zhǔn)
對準(zhǔn)顯微鏡:
? ?1、由兩支變焦顯微鏡,兩支CCD攝像頭,一臺液晶顯示器和X.Z方向調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)組成。
? ?2、該顯微鏡雙物鏡距離可調(diào)。
? ?3、該顯微鏡既可通過顯示屏同時看見兩物鏡的象,也可轉(zhuǎn)換成只看左物鏡或右物鏡的象。
? ?4、總放大倍數(shù):0.7×42~4.5×42=30X~189X。
對準(zhǔn)臺:(采用片動,版不動方式)
X、Y調(diào)整:硅片X、Y的對準(zhǔn)采用切斯曼機(jī)構(gòu)或微分頭調(diào)節(jié)。
粗調(diào)≥±3mm
細(xì)調(diào)≤±0.3mm。
Q調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤3°(另設(shè)粗調(diào)機(jī)構(gòu),可進(jìn)行±15°粗調(diào))
對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0∽50μm任意可調(diào)。
整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±15mm掃描運(yùn)動。
“接觸、分離”20μm情況下,片相對于版的“漂移量”,可調(diào)到≤0.5μm。
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8設(shè)備所需能源
主機(jī)電源: 220V±10% ??50HZ
潔凈空氣≥0.4mpα
真空:-0.07~-0.08MPα。
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9尺寸和重量
尺寸:機(jī)體900(長)×674(寬)×882(高)。
重量:150Kg。
機(jī)體放在專用工作臺上。
工作臺630(長)×654(寬)×645(高)。
高度可調(diào)范圍0~30mm。
重量180Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。
總重量≤330Kg
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10光刻機(jī)的組成
l?主機(jī)
主機(jī)(含機(jī)體和工作臺)
對準(zhǔn)采用CCD雙視場系統(tǒng)
蠅眼光源曝光頭
l?附件
主機(jī)附件
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤(出廠時安裝到機(jī)器上)
5"□型掩版夾盤。
用于φ2"基片的真空夾持承片臺。
用于φ3"基片的真空夾持承片臺(出廠時安裝到機(jī)器上)。
用于φ4"基片的真空夾持承片臺。
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